基(ji)于(yu)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)单峰值波(bo)(bo)长(zhang)(zhang)移(yi)动的(de)(de)锗(zhe)膜(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)测(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)案研究(jiu)(jiu)：在(zai)(zai)对(dui)比(bi)研究(jiu)(jiu)目前常(chang)用(yong)的(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)测(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)案的(de)(de)基(ji)础(chu)上，我们(men)发现(xian)当(dang)两干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)非常(chang)小导致(zhi)其干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)只有一(yi)(yi)(yi)个(ge)干(gan)(gan)涉(she)(she)峰时，常(chang)用(yong)的(de)(de)基(ji)于(yu)两相邻(lin)干(gan)(gan)涉(she)(she)峰间(jian)距的(de)(de)解(jie)(jie)调(diao)方(fang)(fang)案不再适(shi)用(yong)。为(wei)(wei)此，我们(men)提出了(le)适(shi)用(yong)于(yu)极小光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)的(de)(de)基(ji)于(yu)干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)单峰值波(bo)(bo)长(zhang)(zhang)移(yi)动的(de)(de)测(ce)量(liang)(liang)方(fang)(fang)案。干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)的(de)(de)峰值波(bo)(bo)长(zhang)(zhang)会随着光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)的(de)(de)增大出现(xian)周期性的(de)(de)红移(yi)和(he)蓝移(yi)，当(dang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)在(zai)(zai)较小范(fan)围内(nei)变化(hua)时，峰值波(bo)(bo)长(zhang)(zhang)的(de)(de)移(yi)动与光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)(cha)成正比(bi)。根据这(zhei)一(yi)(yi)(yi)原理，搭建(jian)了(le)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纤(xian)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)温度(du)(du)传感(gan)系统对(dui)这(zhei)一(yi)(yi)(yi)测(ce)量(liang)(liang)解(jie)(jie)调(diao)方(fang)(fang)案进行验证，得到了(le)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纤(xian)端面半导体(ti)锗(zhe)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)。实验结果(guo)显示锗(zhe)膜(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)为(wei)(wei)，与台阶(jie)仪(yi)测(ce)量(liang)(liang)结果(guo)存在(zai)(zai)，这(zhei)是因(yin)为(wei)(wei)薄(bo)膜(mo)表(biao)面本身并(bing)不光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)滑，台阶(jie)仪(yi)的(de)(de)测(ce)量(liang)(liang)结果(guo)只能作为(wei)(wei)参考值。锗(zhe)膜(mo)厚(hou)(hou)度(du)(du)测(ce)量(liang)(liang)误差(cha)(cha)主要(yao)来自光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)波(bo)(bo)长(zhang)(zhang)漂移(yi)和(he)温度(du)(du)控制误差(cha)(cha)。白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)厚(hou)(hou)测(ce)量(liang)(liang)技(ji)术可以实现(xian)对(dui)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)在(zai)(zai)线(xian)检测(ce)和(he)控制。高精度(du)(du)膜(mo)厚(hou)(hou)仪(yi)销售价(jia)格(ge)

开(kai)展白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉理论分析，在此基(ji)础(chu)详(xiang)细(xi)介绍了白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直扫描干(gan)(gan)涉技术(shu)和(he)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)技术(shu)的(de)(de)(de)基(ji)本原(yuan)理，完成了应(ying)用(yong)(yong)于靶(ba)丸壳层折(zhe)射(she)(she)率(lv)和(he)厚(hou)(hou)度(du)分布测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)实(shi)验装(zhuang)置(zhi)的(de)(de)(de)设计(ji)及搭建。该实(shi)验装(zhuang)置(zhi)主要由白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)探测(ce)(ce)模(mo)块、靶(ba)丸吸(xi)附转(zhuan)位(wei)模(mo)块、三维运动模(mo)块、气浮隔(ge)震平台等几部(bu)分组(zu)成，可(ke)(ke)实(shi)现靶(ba)丸的(de)(de)(de)负压吸(xi)附、靶(ba)丸位(wei)置(zhi)的(de)(de)(de)精密(mi)调整(zheng)以及靶(ba)丸360°范(fan)围的(de)(de)(de)旋(xuan)转(zhuan)及特定(ding)角(jiao)度(du)下靶(ba)丸壳层白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)的(de)(de)(de)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)。基(ji)于白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直扫描干(gan)(gan)涉和(he)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)的(de)(de)(de)基(ji)本原(yuan)理,建立(li)(li)了二(er)者联(lian)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)靶(ba)丸壳层折(zhe)射(she)(she)率(lv)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法，该方法利用(yong)(yong)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)靶(ba)丸壳层光(guang)(guang)(guang)学厚(hou)(hou)度(du)，利用(yong)(yong)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直扫描干(gan)(gan)涉技术(shu)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)光(guang)(guang)(guang)线通过靶(ba)丸壳层后的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程增量(liang)(liang)(liang)(liang)，二(er)者联(lian)立(li)(li)即(ji)可(ke)(ke)求(qiu)得靶(ba)丸折(zhe)射(she)(she)率(lv)和(he)厚(hou)(hou)度(du)数据。湖南防(fang)水膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)仪白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技术(shu)可(ke)(ke)以实(shi)现对薄膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)快速测(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)和(he)分析。

确定靶丸(wan)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)及(ji)厚度(du)的(de)(de)(de)(de)算法(fa)，由(you)于干(gan)涉光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)信(xin)号(hao)与膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)参量(liang)(liang)(liang)直接相关，这里主要考虑(lv)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)分(fen)析的(de)(de)(de)(de)方法(fa)根(gen)据(ju)测(ce)量(liang)(liang)(liang)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)反(fan)射(she)(she)(she)或(huo)透射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)进行(xing)分(fen)析计(ji)算，可(ke)获得膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚度(du)、折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)等参数(shu)。根(gen)据(ju)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)信(xin)号(hao)分(fen)析计(ji)算膜(mo)(mo)(mo)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)及(ji)厚度(du)的(de)(de)(de)(de)方法(fa)主要有(you)极(ji)值法(fa)和包络法(fa)、全光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)拟合(he)法(fa)。极(ji)值法(fa)测(ce)量(liang)(liang)(liang)膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)主要是(shi)根(gen)据(ju)薄膜(mo)(mo)(mo)反(fan)射(she)(she)(she)或(huo)透射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)谱(pu)(pu)曲线(xian)上(shang)的(de)(de)(de)(de)波(bo)(bo)峰的(de)(de)(de)(de)位(wei)置(zhi)来计(ji)算，对(dui)(dui)于弱色散(san)介(jie)质(zhi)，折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)为恒(heng)定值，根(gen)据(ju)两个或(huo)两个以上(shang)的(de)(de)(de)(de)极(ji)大值点(dian)(dian)的(de)(de)(de)(de)位(wei)置(zhi)，求得膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)学厚度(du)，若已知(zhi)膜(mo)(mo)(mo)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)即可(ke)求解膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚度(du)；对(dui)(dui)于强色散(san)介(jie)质(zhi)，首先利用(yong)(yong)(yong)极(ji)值点(dian)(dian)求出(chu)膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)的(de)(de)(de)(de)初始值。薄膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)是(shi)一(yi)恒(heng)定不变值，可(ke)根(gen)据(ju)极(ji)大值点(dian)(dian)位(wei)置(zhi)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)学厚度(du)关系(xi)式获得入(ru)(ru)射(she)(she)(she)波(bo)(bo)长和折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)的(de)(de)(de)(de)对(dui)(dui)应关系(xi)，再依据(ju)薄膜(mo)(mo)(mo)材(cai)质(zhi)的(de)(de)(de)(de)色散(san)特性(xing)，引(yin)入(ru)(ru)合(he)适的(de)(de)(de)(de)色散(san)模(mo)型(xing)，常用(yong)(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)色散(san)模(mo)型(xing)有(you)cauchy模(mo)型(xing)、Selimeier模(mo)型(xing)、Lorenz模(mo)型(xing)等，利用(yong)(yong)(yong)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)与入(ru)(ru)射(she)(she)(she)波(bo)(bo)长的(de)(de)(de)(de)关系(xi)式，通过二乘法(fa)拟合(he)得到色散(san)模(mo)型(xing)的(de)(de)(de)(de)系(xi)数(shu)，即可(ke)解得任意入(ru)(ru)射(she)(she)(she)波(bo)(bo)长下的(de)(de)(de)(de)折(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)。

目前(qian)，应(ying)用的显(xian)微(wei)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)方式主(zhu)要(yao)有Mirau显(xian)微(wei)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)和(he)Michelson显(xian)微(wei)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)两张方式。如图2-5(a)所示Mirau型(xing)显(xian)微(wei)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)结构，在该结构中物(wu)(wu)镜(jing)和(he)被测(ce)样品(pin)之间有两块(kuai)平板，一(yi)个是涂(tu)覆有高反(fan)射(she)膜(mo)的平板作为(wei)(wei)参(can)考(kao)镜(jing)，另一(yi)块(kuai)涂(tu)覆半透半反(fan)射(she)膜(mo)的平板作为(wei)(wei)分光(guang)(guang)棱镜(jing)，由于参(can)考(kao)镜(jing)位(wei)于物(wu)(wu)镜(jing)和(he)被测(ce)样品(pin)之间，从而使物(wu)(wu)镜(jing)外(wai)壳(qiao)更加紧凑，工作距离相(xiang)对而言短(duan)一(yi)些，其(qi)倍率一(yi)般为(wei)(wei)10-50倍，Mirau显(xian)微(wei)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)物(wu)(wu)镜(jing)参(can)考(kao)端使用与测(ce)量端相(xiang)同显(xian)微(wei)物(wu)(wu)镜(jing)，因此(ci)没有额外(wai)的光(guang)(guang)程差。白光(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)厚测(ce)量技(ji)术可(ke)以应(ying)用于半导体制(zhi)(zhi)造中的薄(bo)膜(mo)厚度(du)控(kong)制(zhi)(zhi)。

干(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)作为(wei)面(mian)扫描方式可以(yi)(yi)一次性对(dui)(dui)薄(bo)膜局域内的(de)厚度进(jin)行(xing)解算(suan)，适用于(yu)对(dui)(dui)面(mian)型整(zheng)体形(xing)貌特征要求(qiu)较高的(de)测(ce)量(liang)对(dui)(dui)象。干(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)算(suan)法(fa)在于(yu)相位(wei)信息的(de)提取，借助多(duo)种复(fu)合算(suan)法(fa)通常可以(yi)(yi)达到(dao)纳米级的(de)测(ce)量(liang)准确度。然而主动(dong)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)对(dui)(dui)条纹稳定(ding)(ding)性不(bu)(bu)(bu)佳，光(guang)(guang)学元件表面(mian)的(de)不(bu)(bu)(bu)清洁、光(guang)(guang)照度不(bu)(bu)(bu)均匀、光(guang)(guang)源不(bu)(bu)(bu)稳定(ding)(ding)、外界气流震(zhen)动(dong)干(gan)扰等(deng)因素均可能影响干(gan)涉(she)(she)(she)(she)图(tu)的(de)完整(zheng)性[39]，使干(gan)涉(she)(she)(she)(she)图(tu)样中包含噪声和部(bu)分区(qu)域的(de)阴影，给后期处(chu)理带(dai)来(lai)(lai)困难(nan)。除此之外，干(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)系(xi)(xi)统精度的(de)来(lai)(lai)源——精密移动(dong)及定(ding)(ding)位(wei)部(bu)件也增加了(le)系(xi)(xi)统的(de)成本，高精度的(de)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)仪往(wang)往(wang)较为(wei)昂贵。白光(guang)(guang)干(gan)涉(she)(she)(she)(she)膜厚测(ce)量(liang)技术可以(yi)(yi)对(dui)(dui)薄(bo)膜的(de)厚度、反射率(lv)、折射率(lv)等(deng)光(guang)(guang)学参(can)数进(jin)行(xing)测(ce)量(liang)。有哪些膜厚仪大概价格(ge)多(duo)少

白光干(gan)涉膜厚(hou)测量(liang)技术可以通(tong)过(guo)对干(gan)涉曲线的分析实现对薄膜的厚(hou)度(du)测量(liang)。高精度(du)膜厚(hou)仪销售价格

干(gan)(gan)涉(she)法(fa)与分光(guang)光(guang)度法(fa)都是利用(yong)相(xiang)(xiang)(xiang)干(gan)(gan)光(guang)形(xing)成等厚(hou)干(gan)(gan)涉(she)条(tiao)纹的原理来确(que)定薄膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)度和(he)折射率，然而与薄膜(mo)(mo)(mo)自发产生(sheng)(sheng)的等倾干(gan)(gan)涉(she)不(bu)同(tong)，干(gan)(gan)涉(she)法(fa)是通过(guo)设置参考光(guang)路(lu)(lu)，形(xing)成与测(ce)(ce)量光(guang)路(lu)(lu)间(jian)的干(gan)(gan)涉(she)条(tiao)纹，因此其相(xiang)(xiang)(xiang)位信(xin)息包(bao)含两个(ge)部(bu)(bu)分，分别是由(you)参考平(ping)面(mian)和(he)测(ce)(ce)量平(ping)面(mian)间(jian)扫描(miao)(miao)高度引起的附加相(xiang)(xiang)(xiang)位和(he)由(you)透(tou)明(ming)薄膜(mo)(mo)(mo)内部(bu)(bu)多次反射引起的膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)相(xiang)(xiang)(xiang)位。干(gan)(gan)涉(she)法(fa)测(ce)(ce)量光(guang)路(lu)(lu)使用(yong)面(mian)阵CCD接收参考平(ping)面(mian)和(he)测(ce)(ce)量平(ping)面(mian)间(jian)相(xiang)(xiang)(xiang)干(gan)(gan)波面(mian)的干(gan)(gan)涉(she)光(guang)强分布，不(bu)同(tong)于以(yi)上三种点(dian)测(ce)(ce)量方式，可一(yi)次性生(sheng)(sheng)成薄膜(mo)(mo)(mo)待测(ce)(ce)区域的表(biao)面(mian)形(xing)貌信(xin)息，但同(tong)时由(you)于存(cun)在大(da)量轴向(xiang)扫描(miao)(miao)和(he)数据解算，完成单次测(ce)(ce)量的时间(jian)相(xiang)(xiang)(xiang)对较长。高精度膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)仪销(xiao)售价格

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