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半导体(ti)材(cai)(cai)料硅片(pian)，是一(yi)种很薄的(de)硬脆(cui)材(cai)(cai)料，它的(de)两个面都要(yao)(yao)进行磨(mo)削(xue)、抛光(guang)等加(jia)(jia)工。对这(zhei)种工件的(de)定(ding)位(wei)夹紧通常(chang)采(cai)用(yong)真空吸(xi)(xi)盘(pan)来吸(xi)(xi)附。传统的(de)真空吸(xi)(xi)盘(pan)存在(zai)如(ru)下缺点(dian)：底座(zuo)(zuo)全部采(cai)用(yong)整体(ti)的(de)精(jing)细(xi)密实陶(tao)瓷(ci)(ci)，当(dang)多(duo)孔陶(tao)瓷(ci)(ci)板经磨(mo)削(xue)修整到一(yi)定(ding)厚度而不能再(zai)用(yong)时，密实陶(tao)瓷(ci)(ci)底座(zuo)(zuo)随之报(bao)废(fei)，精(jing)细(xi)陶(tao)瓷(ci)(ci)材(cai)(cai)料利用(yong)率低，真空吸(xi)(xi)盘(pan)的(de)材(cai)(cai)料成本高(gao)；整体(ti)的(de)密实陶(tao)瓷(ci)(ci)底座(zuo)(zuo)结构较(jiao)复杂，需要(yao)(yao)加(jia)(jia)工装配多(duo)孔陶(tao)瓷(ci)(ci)板的(de)沉孔，以及安装用(yong)的(de)定(ding)位(wei)孔和面，而且(qie)加(jia)(jia)工精(jing)度要(yao)(yao)求(qiu)较(jiao)高(gao)，陶(tao)瓷(ci)(ci)可加(jia)(jia)工性差，加(jia)(jia)工费时费力(li)，所以吸(xi)(xi)盘(pan)的(de)制造成本高(gao)；陶(tao)瓷(ci)(ci)脆(cui)性大，以陶(tao)瓷(ci)(ci)作为底座(zuo)(zuo)直(zhi)接(jie)(jie)与(yu)机(ji)床工作台连(lian)接(jie)(jie)，容易(yi)产(chan)生破(po)碎(sui)损坏(huai)。东莞新能源(yuan)行业真空吸(xi)(xi)盘(pan)厂(chang)(chang)家报(bao)价真空吸(xi)(xi)盘(pan)生产(chan)厂(chang)(chang)家哪家的(de)比较(jiao)便宜？

真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘利用了流体(ti)(ti)力学的(de)什么原理：在(zai)真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘吸(xi)(xi)(xi)(xi)附之前，物(wu)体(ti)(ti)正(zheng)反两(liang)面的(de)大气(qi)压(ya)(ya)(ya)强值(zhi)相(xiang)同，均为(wei)(wei)1bar常压(ya)(ya)(ya)，大气(qi)压(ya)(ya)(ya)强差(cha)(cha)值(zhi)为(wei)(wei)0，这是正(zheng)常状态(tai)；在(zai)真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘吸(xi)(xi)(xi)(xi)附之后，物(wu)体(ti)(ti)真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘吸(xi)(xi)(xi)(xi)附面大气(qi)压(ya)(ya)(ya)强由于真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘的(de)抽(chou)真(zhen)空(kong)效应而改变，如降低为(wei)(wei)0.2bar；而物(wu)体(ti)(ti)另一(yi)面对(dui)应区域的(de)大气(qi)压(ya)(ya)(ya)强不变，仍为(wei)(wei)1bar常压(ya)(ya)(ya)；这样物(wu)体(ti)(ti)正(zheng)反两(liang)面大气(qi)压(ya)(ya)(ya)强就(jiu)产生了0.8bar的(de)差(cha)(cha)值(zhi)，以此差(cha)(cha)值(zhi)乘以吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘所覆盖的(de)有效面积，即为(wei)(wei)真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)力。如果有真(zhen)空(kong)吸(xi)(xi)(xi)(xi)盘的(de)需要，欢(huan)迎联系我们公司。

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