【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度，它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min，现在也只有80m/min～120m/min，在国外日本的EW系列产品中，其卷绕速度已达到300m/min，德国L．H公司生产的镀膜机已达到600m/min，可见随着镀膜技术的发展，卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要，因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定，才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜（如电容器膜）尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高，带状基材在卷绕镀膜过程中，起褶和发生偏斜，严重时会造成基材的断裂，使生产中断，既影响生产效率，又浪费材料。因此，在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。真空镀膜机厂家qian十。重庆射频离子源批发价格

【真空镀膜机镀塑料件时抽真空时间过长是什么原因？】(1)真空室有漏气现象：da家都知道，真空蒸发镀膜机是的基本条件是工件在真空状态下才能进行镀膜加工的，若真空室有漏气现象而没有经过检漏找出漏气位置，则真空镀很长时间都不能抽得上来的；(2)即使真空室没有漏气，因为塑料产品的放气量da，所以抽真空，特别是高真空很难达到。真空室内太脏放气，而且由于塑料产品的放气，造成真空室内镀膜气体的不纯，有杂气的存在，造成镀膜产品的颜色发暗，发黄，发黑等。（3）也许是真空机组的抽气能力不够了，油被污染或氧化了。（4）真空室有漏水。（5）抽空管道有漏气。天津离子束辅助沉积射频离子源专业生产真空镀膜机国内有哪些产商？

【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种，也是简单易行的真空系统检漏方法，因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质，通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率，从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单，但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话，静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏孔的同时还需要确定其位置的话，就需要配合其他方法来进行了。静态升压法的操作只要将被检容器抽空至相应的压力范围，再关闭阀门，隔离真空泵与真空容器，然后用真空计测量记录真空容器中压力随时间的变化过程，即可得出泄漏数据。《真空系统抽气达不到工作压力有哪些原因》中，螺杆真空泵厂家介绍的判断方法即是通过静态升压法实现的，比较方便。当然在应用过程中，要提高准确性就要减少其他因素干扰，需要在检测之前对容器进行净化清洗并烘干，或者用氮气进行冲洗。更严格一点可以在测量规管与容器之间设置冷阱，处理释放的可凝气体，而对可能存在的漏孔所漏进的空气不会造成影响。

【真空镀膜设备维修保养技术】一、当镀膜设备工作完成到两百个镀膜的时候，拆出密封圈，及时清洁设备环境（室内环境）。如何清洁保养？首先我们要使镀上去的膜层掉落，同时释放氢气，清洗过程中要注意所使用到的溶液会灼伤人体的皮肤，所以通常我们要小心谨慎用碱饱和溶液不断来回清洗真空适合内部（内壁），再用清水洗刷真空室，并通过抹布沾上汽油擦拭抽阀里面的污渍。二、当阀泵连续工作一个月之后，为保持设备的正常运转我们需要更换油。将泵启动，拧开放油螺栓，使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓，观察油视镜倒入新油加到一定额度，平常换油时应将油盖打开，有需要时用布擦干净箱内污垢。三、扩散泵连续使用6个月以上，抽的速度会显然变慢，当操作不当应拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。在重新开机前，要注意检漏工作。首先启动维持泵，关好da门，数分钟后，观察扩散泵部分真空度是否达到标准，否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。真空镀膜机的培训资料。

本发明的优点在于：本申请的束径约束器通过驱动组件驱动滑环旋转，以使叶片转动来进行光阑的大小调节，调节方便且调节精度高；而采用包含该束径约束器的束径控制装置进行束径调节时，通过在控制器上输入离子束束径值即可实现光阑大小的调节，无需关闭离子源和打开真空腔体，调节效率高、自动化程度好。附图说明图1为现有技术中采用曲面栅网调节束径的结构示意图。图2为本申请中离子束采用平面栅网的结构示意图。图3为本申请中束径约束器结构示意图。图4为图3的示意图。图5为为图4的进一步示意图。图6为本申请中的叶片结构示意图。图7为本申请中的束径控制装置的示意图。具体实施方式下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，*用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。如图3至6所示为本申请的束径约束器的结构示意图，如图所示，该射频离子源离子束束径约束器，包括底座1、多个叶片2及驱动机构，底座1上设置有可供离子束穿过的中空结构11，多个叶片2设于底座1一端并环绕底座1的中空结构11呈圆周排布。真空镀膜机类型推荐。天津离子束辅助沉积射频离子源专业生产

射频离子源是未来科技发展的重要方向，具有广阔的应用前景。重庆射频离子源批发价格

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputtergun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出重庆射频离子源批发价格

本文来自东莞富发玻璃制品有限公司：//diyijian.cn/Article/48f6499887.html